Detail Cantuman Kembali

XML

Pengaruh Konsentrasi Suspensi dan Tegangan Listrik Terhadap Karakteristik Permukaan Lapisan Alumina pada Commercial Pure Titanium melalui Metode Electrophoretic Deposition untuk Aplikasi Implan Gigi


Implan gigi berbahan Commercial Pure Titanium (CP-Ti) memiliki biokompatibilitas dan kekuatan mekanik yang unggul. Namun ketahanan aus yang relatif rendah menjadi kendala utama pada lingkungan rongga mulut. Berdasarkan hal tersebut, penelitian ini dilakukan untuk mengoptimalkan implan gigi tersebut dengan melapiskan dengan γ-alumina pada substrat CP-Ti menggunakan Electrophoretic Deposition (EPD) dengan variasi konsentrasi suspensi (1 g/L, 3 g/L dan 5 g/L) dan tegangan listrik (10V, 20,V dan 30V). Sebelum proses pelapisan, substrat CP-Ti dilakukan proses etsa menggunakan HF 10% dan HNO₃ 30%. Proses sintering dilakukan pada suhu 500°C selama 1 jam dengan gas argon. Karakterisasi permukaan dilakukan menggunakan Digital Optical Microscope (DOM) untuk mengevaluasi homogenitas lapisan dan pengukuran sudut kontak. Field Emission Electron Microscope-Energy Dispersive X-Ray (FESEM-EDX) untuk analisis morfologi dan komposisi unsur, serta X-Ray Difraction (XRD) untuk identifikasi fasa kristal. Hasil penelitian menunjukkan bahwa sampel 25-C (5 g/L, 30 V) menghasilkan homogenitas lapisan tertinggi sebesar 93,7%. Morfologi lapisan menunjukkan struktur yang padat meski terdapat aglomerasi nano, dan kandungan Al/O tertinggi yaitu 98,2%. Seluruh sampel menunjukkan sifat hidrofilik hingga superhidrofilik dengan sudut kontak berkisar 7° - 16°. Kekasaran permukaan menunjukkan bahwa peningkatan konsentrasi suspensi cenderung menurunkan nilai kekasaran rata-rata (Sa), sedangkan peningkatan tegangan listrik meningkatkan superfisial terkontrol dengan kenaikan konsentrasi menurunkan nilai kekasaran Sa dan kenaikan tegangan meningkatkan nilai kekasaran Sa dengan rentang 1,1 µm - 2,0 µm. Kombinasi parameter tinggi (25-C) menghasilkan lapisan yang tebal, homogen yang sesuai dengan hukum Hamaker (w ∝ CEt). Parameter ini optimal untuk osseointegrasi implan gigi dengan self-cleaning mekanis dan risiko peri-implantitis minimal.
Juhrotul Uyun - Personal Name
SKRIPSI FIS 066
620
Text
Indonesia
2026
serang
xix + 80 hlm.; 18 x 25 cm
LOADING LIST...
LOADING LIST...